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真空鍍鈦技術(shù)發(fā)展歷程和原理
發(fā)布時(shí)間:2014-07-23 瀏覽:  次

  一、 PVD(鍍鈦)技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用

  PVD(物理氣相沉積)技術(shù)運(yùn)用始于二十世紀(jì)七十年代末,起初是用在提高機(jī)械力學(xué)性能的硬質(zhì)膜方面,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。

  最初在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國工具制造業(yè)的高度重視,人們?cè)陂_發(fā)高性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí),也在硬質(zhì)合金、刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

  PVD工藝對(duì)環(huán)境沒有污染,符合現(xiàn)代環(huán)境保護(hù)的發(fā)展方向。

  鍍鈦工藝處理溫度可控制在150~500℃以下,因此鍍鈦工藝可用于多種材質(zhì)基體的涂層,不僅具有多姿多彩的裝飾效果,更重要的是采用PVD技術(shù)可使涂層具有優(yōu)異的理化特性,大幅度強(qiáng)化基體表面諸如硬度、摩擦系數(shù)等物理特性指標(biāo)。

  二、離子真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)和用途

  真空離子鍍鈦應(yīng)用的就是PVD技術(shù)。

  金屬在特定環(huán)境下(壓力,溫度,電磁場(chǎng)等)與各種氣體(氬氣,氮?dú)猓鯕饧耙胰矚獾?產(chǎn)生綜合作用形成等離子體,經(jīng)過加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。

  該鍍鈦膜層細(xì)密均勻,結(jié)合力強(qiáng),硬度高,防腐耐磨,具有良好的導(dǎo)電性和自潤滑性能,同時(shí)色澤豐富多樣。

  因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段,在裝飾上同樣是提升檔次,提高附加值的最佳選擇。

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