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防污鍍膜設備的原理主要包括磁控濺射和反應濺射等工藝?。磁控濺射系統(tǒng)在陰極靶材背后放置強力磁鐵,真空室充入惰性氣體(如氬氣),在高壓作用下,氬原子電離成氬離子和電子,電子在磁場中偏轉(zhuǎn),與氬原子碰撞產(chǎn)生更多的氬離子。
這些氬離子在高壓電場作用下轟擊靶材,使靶材原子逸出并沉積在基片上形成薄膜?。
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